Tantalum rozprašovací cíl

Shaanxi Zhongheng Weichuang Metal Materials Co., Ltd. is located in the High tech Development Zone of Baoji City, Shaanxi Province. The company mainly produces conventional processed profiles such as plates, strips, foils, rods, wires, and pipes made of tantalum, niobium, Hafnium, slitina tantalum wolfram, slitina hafnia Niobium hafnium C103, stejně jako hluboké zpracované produkty, jako jsou lodě, kelímky, cíle rozprašování, cíle, obrobené části, okornáři a okornalické zařízení), otravová zařízení), {{} {{{{{{{}}}}}

 

 

Podrobné vysvětlení specifikací Tantalum Specifice Target Target Materiál

01.

Specifikace průměru/tloušťky

Specifikace průměru: Společné standardní průměry jsou 50 mm, 50 . 8 mm, 57 mm, 60 mm, 76,2 mm, 80 mm, 100 mm a 101,6 mm, s přizpůsobovacím rozsahem 50-400 mm.
Specifikace tloušťky: Základní tloušťka je obvykle 0.1-50 mm (například 3mm je běžná hodnota) a může být navázána na měďový zadní cíl (jako je 2 mm nebo 3mm měď) nebo je vybaven magnetickými těsněními pro splnění kompatibility konkrétního zařízení .

02.

Stupeň čistoty/materiál stav/tvar a přizpůsobení

Úroveň čistoty: Vysoká čistota větší než nebo rovná 99 . 95% nebo větší nebo rovné 99,99%, vhodné pro polovodičové aplikace.
Stav materiálu: Poskytněte žíhaného stavu (m) nebo tvrdý stav (y) pro splnění různých požadavků na zpracování .
Tvar a přizpůsobení: Podporuje přizpůsobení plochých cílů, rotujících cílů a nepravidelných cílů . Rozměry, tolerance (jako je drsnost povrchu menší nebo rovná 32rms) a metody vazby mohou být flexibilně navrženy podle výkresů nebo požadavků .
Stupeň čistoty/materiál stav/tvar a přizpůsobení

Charakteristiky:
Vysoký bod tání a vynikající chemická stabilita: Tantalum má bod tání 3017 stupňů a bod varu 5458 stupňů . Nereaguje s Aqua Regia při pokojové teplotě a má vynikající odolnost proti korozi .
Unikátní elektrické vlastnosti: Tantalum vykazuje vynikající elektrické vlastnosti a je vhodné pro špičkové rozprašovací procesy, jako je RF rozprašování s hustotou výkonu až 15 W/cm ² .
High temperature stability and low gas adsorption: maintaining a strength of>400MPA při 500 stupních, s povrchovou energií až 0 . 8J/M ², účinně potlačuje adsorpci AR plynu a zlepšuje rychlost ukládání filmu.

Účel:
Polovodičová výroba: Tantalum Cíle se běžně používají jako bariérové ​​materiály pro technologii propojení mědi v polovodičových integrovaných obvodech . Tantalum/Tantalum dusígen (TA/Tan) může efektivně prodloužit elektromigraci doba selhání do 10 hodin .}..
Optický povlak: Tantalum cíle se používají k výrobě tenkých filmů se specifickými optickými vlastnostmi prostřednictvím technik fyzikální depozice (PVD) nebo chemické depozice par (CVD) a jsou široce používány v optických zařízeních, displejích a senzorch .
Zdravotnictví: Tantalum má dobrou biokompatibilitu a je vhodný pro lékařské implantáty, jako jsou kostní destičky a protézy kloubů, čímž se snižuje reakce na odmítnutí člověka .
Potahování proti korozi: Vzhledem k vynikajícímu odolnosti proti korozi Tantalu se používá k natažení chemického vybavení a kovových povrchů vystavených extrémním prostředím, čímž se prodlouží životnost zařízení .
Další aplikace: Cílové materiály Tantalum se také používají při výrobě magnetických úložných médií, hlav tiskárny InkJet a displejů plochých panelů .

Populární Tagy: Target Tantalum Spartering, Čína Tantalum Upravování cílových výrobců, dodavatelé, továrna